"Photoresistの市場規模は2022年に93億米ドルと評価され、2030年までにXX米ドルに達すると予測されており、2023年から2030年まで6.1％のCAGRで成長しています。

調査報告書は、基準年2023年の世界フォトレジスト市場の規模と2024年から2031年の間の予測を発表しています。そしてアプリケーションセグメントは、グローバルおよびローカル市場向けに提供されています。

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主要メーカーの詳細：

Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd, Dow Chemical Company, Honshu Chemical Industry, TOK America, JSR Corporation, DuPont de Nemours, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd, Fujifilm Corporation, Sumitomo Chemical Co., Ltd., ALLRESIST, Merck Group, Micro Resist Technology, DJ MicroLaminates

このレポートは次のようにも分割されています。

タイプに基づいて：
ポジティブフォトレジスト、ネガティブフォトレジスト

製品タイプ別
ARF Immersion Photoresist、Dry Photoresist、G-Line